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【真空腔体】PVD采用真空腔体的原因

来源:http://www.jmzkkj.com发布时间:2019-12-03

真空腔体-PVD是指在真空条件下,用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。

真空腔体
真空镀膜中的溅射利用了辉光放电原理,因为有电场的存在,驱动空气中的电子和正离子运动,电子向正极运动,正离子向阴极运动。离子与电子在运动过程中动能量不断增加,与空气分子碰撞就会不断地产生更多的离子与电子,就造成了辉光的持续放电。
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